云南凈化工程潔凈室里的溫度和標準氣壓操縱

1、潔凈室里的溫濕度控制

清潔區(qū)域的溫度濕度主要是根據(jù)工藝標準來決定，但達到工藝標準的條件下，應注意到你的舒適性感。伴隨著氣體潔凈度規(guī)定的提升，出現(xiàn)加工工藝對溫度濕度的需求也越來越嚴格的態(tài)勢。

實際加工工藝對溫度的需求之后還要例舉，但是作為總體標準看，考慮到尺寸精度愈來愈細致，因此對溫度波動幅度的需求愈來愈小。比如在大規(guī)模集成電路制造的光刻技術(shù)曝出工藝中，做為掩膜板原材料玻璃與硅片的線膨脹系數(shù)的差規(guī)定愈來愈小。

孔徑100um的硅片，溫度升高1度，就引起了0.24um線性澎漲，所以必須要有±0.1多度控溫，并要求環(huán)境濕度值一般比較低，由于人出汗之后，對產(chǎn)品質(zhì)量即將迎來環(huán)境污染，尤其是怕鋅的半導體材料生產(chǎn)車間，這類生產(chǎn)車間不宜超過25度。

濕度太高所產(chǎn)生的難題大量?？諝鉂穸瘸?5%時，冷卻管內(nèi)壁會冷凝水，如果出現(xiàn)在高精密設(shè)備或電路板上，就會引發(fā)各種各樣安全事故?？諝鉂穸仍?0%最易銹蝕。除此之外，濕度過高時把根據(jù)空氣中的水分子把硅片表面黏著的塵土化學吸附在表面耐無法消除。

空氣濕度越大,黏附的難除掉，但是當空氣濕度少于30%時，又因為靜電感應力作用使顆粒也很容易吸咐于表面，與此同時很多半導體元器件很容易發(fā)生穿透。針對硅片生產(chǎn)制造更好溫度范圍包括35—45%。

2、潔凈室里的標準氣壓要求-云南凈化工程

對于大多數(shù)清潔室內(nèi)空間，為了避免外部環(huán)境污染進入，需要保持內(nèi)部工作壓力（負壓）高過外部工作壓力（負壓）。壓力差的保持一般必須符合下列標準：

1．清潔室內(nèi)空間壓力要高于非清潔室內(nèi)空間壓力。

2.潔凈度級別高空間壓力要高于鄰近的潔凈度等級低室內(nèi)空間壓力。

3.互通潔凈室中間房門會開向潔凈度等級強的屋子。

壓力差的維系借助排風量，這一排風量能夠賠償在這一壓力差下從間隙漏泄掉排風量。因此壓力差的物理意義便是漏泄（或滲入）排風量根據(jù)潔凈室的各類間隙時的摩擦阻力。